專註真(zhen)空(kong)泵與(yu)係統設(she)計製(zhi)造16年(nian)
額定流(liu)量(liang):100m³/h(50Hz)
極限(xian)壓力≤1x10-3mbr(abs)
電壓(ya):320-440(50Hz)
功率(lv):0.4Kw
口(kou)逕:VG5...
額定(ding)流量:300m³/h(50Hz)
極限壓(ya)力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓(ya):320-440(50Hz)
功率:0.75Kw
口逕:VG...
額定流(liu)量(liang):500m³/h(50Hz)
極限壓力≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功(gong)率(lv):2.2Kw
口(kou)逕(jing):VG6...
額(e)定流量:1100m³/h(50Hz)
極限(xian)壓力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓:320-440(50Hz)
功率:3.7Kw
口(kou)逕:VG...
可(ke)應(ying)用于:蒸髮鍍膜、磁(ci)控濺(jian)射(she)、捲(juan)繞鍍膜、離子鍍(du)膜(mo)、光學(xue)鍍(du)膜(mo)等;單(dan)晶(jing)鑪、多晶鑪(lu)、真(zhen)空熱處(chu)理(li)鑪(lu)、燒結(jie)鑪(lu)、...
可應(ying)用于:蒸(zheng)髮鍍(du)膜、磁(ci)控(kong)濺射、捲繞鍍(du)膜、離(li)子鍍膜、光學(xue)鍍膜(mo)等;單(dan)晶(jing)鑪、多(duo)晶鑪、真(zhen)空(kong)熱(re)處理(li)鑪(lu)、燒結鑪(lu)、...
可(ke)應用于:蒸髮鍍膜、磁(ci)控濺(jian)射、捲(juan)繞鍍膜(mo)、離(li)子(zi)鍍膜(mo)、光(guang)學(xue)鍍膜(mo)等;單(dan)晶鑪、多(duo)晶鑪、真(zhen)空熱處(chu)理(li)鑪(lu)、燒(shao)結鑪(lu)、...
可(ke)應(ying)用于(yu):蒸(zheng)髮(fa)鍍膜、磁控(kong)濺射(she)、捲繞鍍(du)膜(mo)、離子鍍(du)膜、光學(xue)鍍膜(mo)等;單晶鑪、多晶鑪、真空(kong)熱處(chu)理(li)鑪、燒結(jie)鑪、...